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一种是快抛粉;另一种是慢抛粉
从1940年开始，高氧化铈含量的稀土抛光粉开始取代氧化铁（即铁红）用于玻璃抛光，成为玻璃抛光加工过程中的关键工艺材料之一。与传统抛光粉—铁红粉相比，稀土抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点，而且能改变抛光质量和操作环境。例如用氧化铈抛光粉抛光透镜，一分钟完成的工作量，如用氧化铁抛光粉则需要30～60分钟。稀土抛光粉因其独特的化学机械作用原理而带来的高抛光效率，成为玻璃抛光材料的首选，被广泛用于镜片、光学元件（透镜、棱镜）、彩电玻壳、平板显示器用电子玻璃、硅片、磁盘玻璃基片等产品的抛光加工。
根据铈含量的不同，稀土抛光粉可分为高铈（>90%）、富铈（>70％)和低铈（<70%）三种。
根据其应用领域的不同，稀土抛光粉产品可分为微米级、亚微米级、纳米级三类，其特性与应用领域如下表所示：
m）m类别 颗粒大小（ 铈含量（％） 应用领域
微米级 1－10 40-80 眼镜片、光学元件、彩电玻壳
亚微米级 0.1-1 40-80 平板显示器用电子玻璃
高档 <0.1 99 硅片、磁盘玻璃基片
